Ⅰ 如何快速設計裝修電鍍注塑潔凈車間
如何快速設計裝修電鍍注塑潔凈車間，純臻凈化工程為您解決！
鍍塑膠件在日常生活中應用廣泛，例如：化裝品；打火機；衛浴，汽配等。電鍍塑料表面，直接影響著廣大消費者的購買欲。這類產品廣泛用於日常生活中，因而電鍍注塑無塵車間環境尤為重要。以下是關於注塑無塵車間工程相關資料討論
一、注塑無塵車間凈化的規劃：保證所有碎料、給料、混料車間的絕對隔離
1、給料、混料室獨立隔成小房間，設備常用烘料機、模溫儀、供料機等設備，管路需提前考慮如何布局，防止後期管道需從無塵牆面穿過；
2、碎料室一定要遠離無塵車間區域
3、模具室最好放到無塵注塑車間外面，進入無塵室必須經過風淋處理方能入內
4、模具吊裝設備對於小型注塑機，可以採用小型龍門架電動葫蘆
5、物流的流通隔離、輸送
二、提供無塵空氣、收集、排出注塑廢氣
1、通過安裝無塵空調箱，使空氣凈化過濾達到設計要求，根據客戶實際情況，設計10-30萬級無塵空調凈化箱
2、注塑過程中會產生大量熱廢氣，必須通過合理收集盡快排出無塵室，保持作業環境的無塵要求
3、廢氣的集中排放，根據不同地方法規要求，加裝活性炭廢氣處理設備（上海浦東新建注塑機工廠項目現必須做廢氣處理，才允許排放）
三、全自動化供料、取件、輸送
1、注塑原料採用高壓自動供料系統，通過不銹鋼管道實現自動供料，管道在施工前期最好安排同電纜、供水、供氣等埋到地下
2、注塑機取件採用全自動機械手臂作業，結合斜坡輸送皮帶線體取件作業
3、作業人員分離，斜坡皮帶線把產品集中輸送到大的皮帶線上面，通過大皮帶線把成品輸送至檢驗工作室，由作業員分類、分揀、整理合格產品
四、注重後期管理
1、保持無塵室地面、牆面、頂板、注塑機體、輸送流水線等無塵室內的潔凈
2、及時更換潔凈空調箱內的空氣過濾器，以及不超過六個月一次更換高效過濾器
3、更換模具後及時清理油漬等污染源
4、所有進出注塑無塵室的物品、人員必須經風淋室、貨淋室
5、按無塵要求對員工進行培訓
五、注塑車間凈化室主要結構材料
1、無塵車間牆面、頂板材料一般採用50mm厚的夾芯岩棉彩鋼板、凈化專用的氧化鋁型材製作
2、無塵車間門使用無塵凈化專用鋁合金門料製作密閉，觀察玻璃窗採用無塵凈化專用鋁合金窗鋁製作、固定密閉
2、地面採用環氧自流平或高級耐磨塑料無塵地板
3、無塵車間通風管道使用鍍鋅板製作，結合PEF阻燃型的保溫板做保溫提供集中製冷加熱（非中央空調用戶無需做保溫處理）
六、注塑無塵車間空氣凈化排風流程
室外空氣 → 濕簾 → 初效過濾器 → 中效過濾器 → （中央空調加熱或製冷）→ 高壓風機 → 送風管道 → 高效送風口 → 潔凈室 → 廢氣收集喇叭口 → 排風管道 → （活性炭廢氣處理設備，根據上海浦東新區最新廢氣排放要求） → 高壓排風風機 → 15米高空排放。
參考資料：http://..com/question/1049880654565201939.html
Ⅱ 無塵車間的安全要求
一、無塵室須知
1. 進入無塵室前，必須知會管理人，並通過基本訓練。
2. 進入無塵室嚴禁吸煙，吃(飲)食，外來雜物(如報章，雜志，鉛筆...等)不可攜入，並嚴禁嘻鬧奔跑及團聚談天。
3. 進入無塵室前，需在規定之處所脫鞋，將鞋置於鞋櫃內，外衣置於衣櫃內，私人物品置於私人櫃內，櫃內不可放置食物。
4.進入無塵室須先在更衣室，將口罩，無塵帽，無塵衣以及鞋套按規定依程序穿戴整齊，再經空氣洗塵室洗塵，並踩踏除塵地毯(洗塵室地板上)方得進入。
5. 戴口罩時，應將口罩戴在鼻子之上，以將口鼻孔蓋住為原則，以免呼吸時污染晶元。
6. 穿著無塵衣，無塵帽前應先整理服裝以及頭發，以免著上無塵衣後，不得整理又感不適。
7. 整肅儀容後，先戴無塵帽，無塵帽的穿戴原則系:
(1)頭發必須完全覆蓋在帽內，不得外露。
(2)無塵帽之下擺要平散於兩肩之上，穿上工作衣後，方不致下擺脫出，裸露肩頸部。
8.無塵帽戴妥後，再著無塵衣，無塵衣應尺吋合宜，才不致有褲管或衣袖太短而裸露皮膚之虞，穿衣時應注意帽之下擺應保平整之狀態，無塵衣不可反穿。
9. 穿著無塵衣後，才著鞋套，拉上鞋套並將鞋套整平，確實蓋在褲管之上。
10. 戴手套時應避免以光手碰觸手套之手掌及指尖處(防止鈉離子污染)，戴上手套後，應將手套之手腕置於衣袖內，以隔絕污染源。
11. 無塵衣著妥後，經洗塵，並踩踏除塵毯，方得進入無塵室。
12. 不論進入或離開無塵室，須按規定在更衣室脫無塵衣，不可在其它區域為之，尤不可在無塵室內邊走邊脫。
13. 無塵衣，鞋套等，應定期清洗，有破損，脫線時，應即換新。
14. 脫下無塵衣時，其順序與穿著時相反。
15. 脫下之無塵衣應吊好，並放於更衣室內上層櫃子中;鞋套應放置於吊好的無塵衣下方。
16. 更衣室內小櫃中，除了放置無塵衣等規定物品外，不得放置其它物品。
17. 除規定紙張及物品外，其它物品一概不得攜入無塵室。
18. 無塵衣等不得攜出無塵室，用畢放置於規定處所。
19. 口罩與手套可視狀況自行保管或重復使用。
20. 任何東西進入無塵室，必須用灑精擦拭乾凈。
21. 任何設備的進入，請知會管理人，在無塵室外擦拭乾凈，方可進入。
22. 未通過考核之儀器，禁止使用，若遇緊急情況，得依緊急處理步驟作適當處理，例如關閉水、電、氣體等開關。
23. 無塵室內絕對不可動火，以免發生意外。
二、無塵室操作須知
1. 處理晶元時，必須戴上無纖維手套，使用清洗過的干凈鑷子挾持晶元，請勿以手指或其它任何東西接觸晶元，遭碰觸污染過的晶元須經清洗，方得繼續使用：
(1) 任何一支鑷子前端(即挾持晶元端)如被碰觸過，或是鑷子掉落地上，必須拿去清洗請勿用紙巾或布擦拭臟鑷子。
(2) 晶元清洗後進行下一程序前，若被手指碰觸過，必須重新清洗。
(3)把晶元放置於石英舟上，准備進爐管時，若發現所用鑷子有污損現象或晶元上有顯眼由鑷子所引起的污染，必須將晶元重新清洗，並立即更換干凈的鑷子使用。
2. 晶元必須放置盒中，蓋起來存放於規定位置，盡可能不讓它暴露。
3.避免在晶元上談話，以防止唾液濺於晶元上，在晶元進擴散爐前，請特別注意，防止上述動作產生，若晶元上沾有纖維屑時，用氮氣槍噴之。
4. 從鐵弗龍(Teflon)晶舟，石英舟(QuartzBoat)等載具(Carrier)上，取出晶元時，必須垂直向上挾起，避免刮傷晶元，顯微鏡鏡頭確已離晶元，方可從吸座上移走晶元。
5. 晶元上，若已長上氧化層，在送黃光室前切勿用鑽石刀在晶元上刻記。
6. 操作時，不論是否戴上手套，手絕不能放進清洗水槽。
7. 使用化學站或烤箱處理晶元時，務必將晶元置放於鐵弗龍晶舟內，不可使用塑料盒。
8. 擺置晶元於石英舟時，若晶元掉落地上或手中則必須重新清洗晶元，然後再進氧化爐。
9. 請勿觸摸晶元盒內部，如被碰觸或有碎晶元污染，必須重作清洗。
10. 手套，廢紙及其它雜碎東西，請勿留置於操作台，手套若燒焦、磨破或纖維質變多必須換新。
11. 非經指示，絕不可開啟不熟悉的儀器及各種開關閥控制鈕或把手。
12. 奇怪的味道或反應異常的溶液，顏色，聲響等請即通知相關人員。
13. 儀器因操作錯誤而有任何損壞時，務必立刻告知負責人員或老師。
14. 晶元盒進出無塵室須保持干凈，並以保鮮膜封裝，違者不得進入。
15. 無塵室內一律使用原子筆及無塵筆記本做記錄，一般紙張與鉛筆不得攜入。
三、黃光區操作須知
1. 濕度及溫度會影響對准工作，在黃光區應注意溫度及濕度，並應減少對准機附近的人，以減少濕、溫度的變化。
2. 上妥光阻尚未曝光完成之晶元，不得攜出黃光區以免感光。
3. 己上妥光阻，而在等待對准曝光之晶元，應放置於不透明之藍黑色晶盒之內， 盒蓋必須蓋妥。
4. 光罩使用時應持取邊緣，不得觸及光罩面，任何狀況之下，光罩鉻膜不得與他物接觸，以防刮傷，光罩之落塵可以氮氣槍吹之。
5. 曝光時，應避免用眼睛直視曝光機汞燈。
四、鑷子使用須知
1. 進入實驗室後，應先戴上手套後，再取鑷子，以免沾污。
2. 唯有使用干凈的鑷子，才可持取晶元，鑷子一旦掉在地上或被手觸碰，或因其它原因而遭污染，必須拿去清洗，方可再使用。
3. 鑷子使用後，應放於各站規定處，不可任意放置，如有特殊製程用鑷子，使用後應自行保管，不可和實驗室內各站之鑷子混合使用。
4. 持鑷子應采"握筆式"姿勢挾取晶元。
5. 挾取晶元時，順序應由後向前挾取，放回晶元時，則由前向後放回，以免刮傷晶元表面。
6. 挾取晶元時，"短邊" (鋸狀頭)置於晶元正面，"長邊" (平頭)置於晶元背面，挾晶元空白部分，不可傷及晶元。
7. 嚴禁將鑷子接觸酸槽或D.I Water水槽中。
8. 鑷子僅可做為挾取晶元用，不準做其它用途。
五、化學葯品使用須知
1. 化學葯品的進出須登記，並知會管理人，並附上物質安全資料表（MSDS）於實驗室門口。
2. 使用化學葯品前，請詳讀物質安全資料表(MSDS)，並告知管理人。
3. 換酸前必先穿著防酸塑料裙，戴上防酸長袖手套，頭戴護鏡，腳著塑料防酸鞋，始可進行換酸工作。
4. 不得任意打開酸瓶的蓋子，使用後立即鎖緊蓋子。
5. 稀釋酸液時，千萬記得加酸於水，絕不可加水於酸。
6. 勿嘗任何化學葯品或以嗅覺來確定容器內之葯品。
7. 不明容器內為何種葯品時，切勿搖動或倒置該容器。
8. 所有化學葯品之作業均須在通風良好或排氣之處為之。
9. 操作各項酸液時須詳讀各操作規范。
10. 酸類可與鹼類共同存於有抽風設備的儲櫃，但絕不可與有機溶劑存放在一起。
11. 廢酸請放入廢酸桶，不可任意傾倒，更不可與有機溶液混合。
12. 廢棄有機溶液置放入有機廢液桶內，不可任意傾倒或倒入廢酸桶內。
13. 勿任意更換容器內溶液。
14.欲自行攜入之溶液請事先告知經許可後方可攜入，如果欲自行攜入之溶液具有危險性時，必須經評估後方可攜入，並請於容器上清楚標明容器內容物及保存期限。
15. 廢液處理：廢液分酸、鹼、氫氟酸、有機、等，分開處理並登記，回收桶標示清楚，廢液桶內含氫氟酸等酸鹼，絕對不可用手觸碰。
16.漏水或漏酸處理：漏水或漏酸時，為確保安全，絕對不可用手觸碰，先將電源總開關與相關閥門關閉，再以無塵布或酸鹼吸附器處理之，並報備管理人。
六、化學工作站操作
1. 操作時須依規定，戴上橡皮手套及口罩。
2. 不可將塑料盒放入酸槽或清洗槽中。
3. 添加任何溶液前，務必事先確認容器內溶劑方可添加。
4. 在化學工作站工作時應養成良好工作姿勢，上身應避免前傾至化學槽及清洗槽之上方，一方面可防止危險發生，另一方面亦減少污染機會。
5. 化學站不操作時，有蓋者應隨時將蓋蓋妥，清洗水槽之水開關關上。
6. 化學葯品濺到衣服、皮膚、臉部、眼睛時，應即用水沖洗濺傷部位15分鍾以 上，且必須皮膚顏色恢復正常為止，並立刻安排急救處理。
7. 化學品外泄時應迅速反應，並做適當處理，若有需要撤離時應依指示撤離。
8. 各化學工作站上使用之橡皮手套，避免觸碰各機台及工作台，及其它器具等物，一般操作請戴無塵手套。
七、RCA Method
1. DIWater 5min
2. H2SO4:H2O2=3:1 煮10~20min 75~85℃，去金屬、有機、油
3. DIWater 5min
4. HF:H2O 10~30sec，去自然氧化層(Native Oxide)
5. DIWater 5min
6. NH4OH:H2O2;H2O=1:1:5 煮10~20min 75~85℃，去金屬有機
7. DIWater 5min
8. HCl:H2O2:H2O=1:1:6 煮10~20min 75~85 ℃ 去離子
9. DIWater 5min
10. Spin Dry
八、清洗注意事項
1. 有水則先倒水，H2O2最後倒，數字比為體積比。
2. 有機與酸鹼絕對不可混合，操作平台也務必分開使用。
3. 酸鹼溶液等冷卻後倒入回收槽，並以DI Water沖玻璃杯5 min。
4. 酸鹼空瓶以水清洗後，並依塑料瓶，玻璃瓶分開置於室外回收筒。
5. 氫氟酸會腐蝕骨頭，若碰到立即用葡萄酸鈣加水塗抹，再用清水沖洗干凈，並就醫。碰到其它酸鹼則立即以DI Water大量沖洗。
6. 清洗後之Wafer盡量放在DI Water中避免污染。
7. 簡易清洗步驟為1-2-9-10；清洗SiO2步驟為1-2-10；清洗Al以HCl:H2O=1:1。
8. 去除正光阻步驟為1-2-10，或浸入ACE中以超音波振盪。
9. 每個玻璃杯或槽都有特定要裝的溶液，蝕刻、清洗、電鍍、有機絕不能混合。
10. 廢液回收分酸、鹼、氫氟酸、電鍍、有機五種，分開回收並記錄，傾倒前先檢查廢棄物兼容性表，確定無誤再傾倒。
無塵室系統
使用操作方法
1. 首先打開控制器面板上的【電熱運轉】、【加壓風車運轉】、【浴塵室運轉】、【排氣風車運轉】等開關。
注意:
＊ 溫度控制器及濕度控制器可由黃色鈕調整，一般溫度控制為20℃ DB ，濕度控制為50% RH。
＊左側的控制器面板上電壓切換開關為【RU】，電流切換開關為【T】。右側的控制器面板上電壓切換開關為【RS】，電流切換開關為【OFF】。
2. 將箱型空氣調節機的送風關關打開，等送風穩定後再將冷氣暖氣開關打開，此時紅色燈會亮起，表示正常運作。
注意:
＊ 冷氣的起動順序為壓縮機【NO.2】。
＊ 溫度調節為指針指向紅色暖氣【5】。
＊ 分流開關AIR VALVE 為【ON】。
3. 無塵室使用完畢後，要先將箱型空氣調節機關閉，按【停止】鍵即可。
4. 再將控制器面板上的【電熱運轉】、【加壓風車運轉】、【浴塵室運轉】、【排氣風車運轉】等開關依序關閉。
氣體鋼瓶
使用操作方法
1. 用把手逆時針打開氣體鋼瓶到底，將【OUTLET】打開PURGE關閉。
2. 由黑色轉鈕調整氣體鋼瓶的壓力(psi)，順時針方向為增加，逆時針方向為減少。
3. 將N2鋼瓶調整為40psi（黃光室內為20psi）,AIR鋼瓶調整為80psi（黃光室內為60psi）。
4. 氣體鋼瓶使用完畢後，用把手順時針關閉氣體鋼瓶到底，將【OUTLET】關閉【PURGE】打開將管路內的氣體排出後將【PURGE】關閉。
純水系統
使用操作方法
1. 閥門控制
(1) 閥門(VALVE)V1、V2、V3、V4、V6、V8、V10、V12、V13、V14、V16、V17、V19應保持全開。
(2) 閥門V5、V7、V11、V18、V21應保持全關。
(3) 閥門V9、V20為調壓作用，不可全開或全關。
(4) 閥門中V5為砂濾機之BY-PASS，V15為U.V燈之BY-PASS，V18為DI桶之BY-PASS，V21為RO膜之BY-PASS。
2. 自動造水
步驟1：如上【閥門控制】將各球閥門開關定位。
步驟2：控制箱上，各切換開關保持在【OFF】位置。
步驟3：將控制箱上【系統運轉】開關切換至【ON】位置。
步驟4：電磁閥1 激活先做初期排放。
步驟5：電磁閥2 激活造水。
步驟6：此時，PUMP1、PUMP2依序激活，系統正常造水，RO產水經管路進入儲水桶(TANK)，當水滿後控制箱上高液位指示燈亮，系統自動停機，並於儲水桶水位下降至低液位時再激活造水。
3. 系統用水
將控制箱上之【夜間循環-停-用水】切換開關切換至【用水】，此時PUMP3輸送泵浦激活，TANK內之純水經幫浦輸送至U.V、DI桶及精密過濾後，供現場各使用點使用。
4. 夜間循環
控制箱上之【夜間循環-停-用水】切換開關，主要在配合每日下班或連續假日停止供水後管路之衛生考慮，其步驟為:
(1) 停止供水59分鍾後，系統再自動供水1分鍾。
(2) 此後每隔59分鍾供水循環1分鍾至夜間循環【停】為止。
5. 系統偵測
本系統中附有各項壓力表、流量計及導電度計，作為系統運轉之控制，其功能如下:
壓力表1：砂濾機進水壓力
壓力表2：RO進水壓力
壓力表3：RO排水壓力
壓力表4：DI進水壓力
壓力表5：供水迴流壓
流量計1：RO排水流量
流量計2：RO產水流量
另外，控制箱(機房)附有二段式LED導電度顯示屏，原水及產水分別切換顯示。
6. 系統維護
HF-RD系統，應定期更新之耗材:
(1) 砂濾機應定期逆時。
(2)預濾應每1-2個月更新。
(3)膜管應視其去除率及產水量做必要之清洗或更新。
(4)樹脂混床視比電阻值更新。
(5)精密過濾約每2-4個月更新。
7. 故障排除
現 象 可能因素 排除方法
系統停機、系統無法激活 1. 外電源異常2. 系統運轉開關未按下3. 系統電路故障4. 馬達/泵浦故障 1. 檢查系統電源電路2. 按下系統運轉開關3. 通知廠商4. 更新馬達/泵浦
低產水量 1. 膜管排水量太高2. 壓力不足3. 膜管阻塞 1. 調整排水閥V92. 清洗膜管或更新膜管
低比電阻 1. 樹脂功能下降2. RO去除率下降 1. 更換樹脂2. 更換RO膜組
光罩對准機
使用操作方法
曝光機簡介
在半導體製程中，塗布光阻後的晶元，須經UV紫外光照射曝光顯影，此台曝光機為OAI200系列，整合光罩對准、UV紫外光曝光顯影、UV紫外光測量裝置及光罩夾持裝置。
OAI200系列為一入門型光罩對准儀，可以手動操作更改各項使用參數，如曝光時間、曝光強度及曝光功率等等。對於中高階的線寬有很好的顯影效果，此系列最大可使用四吋的晶元，最大的曝光功率為1KW。
曝光機使用步驟
1. 檢查氮氣鋼瓶〈AIR 60psi〉〈N220psi〉以及黃光室的氮氣閥、空氣閥是否有開啟。開啟曝光機下方延長線的紅色總開關，再開啟曝光機、顯微鏡。
2. 接上隧道式抽風馬達電源，進行曝光機抽風步驟，並檢查曝光機上方汞燈座後面進風口是否有進氣。如果風量微小或者無進氣，則無法開啟汞燈的電源〈會有警報聲〉。確定進風口有進氣後，才可開啟曝光機下方的汞燈電源供應器ON/OFF開關。
3. 按住汞燈電源供應器之START鍵，約1~3秒鍾，此時電流值會上升〈代表汞燈點亮，開始消耗電流〉，馬上放掉按鍵，汞燈即被點亮。
4. 汞燈點亮後，至少須待機30分鍾，使Lightsource系統穩定。假使汞燈無法點亮，請不要作任何修護動作。
5. 待系統穩定後，把電源供應器上的電壓、電流值填到紀錄表上，每一次開燈使用都要登記作為紀錄。
6. 旋開光罩夾具之螺絲，光罩之正面〈鍍鉻面〉朝下，對准三個基準點，壓下【MASKVAC.】鍵，使真空吸住光罩，再鎖好螺絲以固定光罩。
注意：
＊ MASK Holder 必須放下時才能放置光罩。扳動【MASK FRAME UP/DOWN】可使MASKHolder升起或放下。
＊ 先用氮氣吹光罩和MASK Holder，光罩正面朝下，對准黑邊鐵框，手勿接觸光罩，壓下【MASKVAC.】鍵，使真空吸住光罩，鎖上旁邊兩個黑鐵邊。
＊ 檢查放置晶元的圓形基座CHUNK是否有比光罩低些，防止光罩壓破晶元。
7. 扳起【MASK FRAME UP/DOWN】鍵，使MASKHolder上升，放置晶元到CHUNK上，將【SUB VAC.】鍵扳至ON，使真空吸住晶元，扳下【MASK FRAMEUP/DOWN】鍵，使MASK Holder放下。
8. 扳動台邊鈕(Ball LockButton)為Unlock，順時針方向慢慢旋轉旋轉鈕(Z knob)，使晶元基座上升，直到傳動皮帶感覺已拉緊即可，然後逆時針旋轉ZKnob約15格，扳動台邊鈕(Ball Lock Button)為Lock。
注意：
＊ Z knob 每格約15 microns。
＊ 逆時針方向旋轉Zknob，會使放置晶元基座下降，其目的是為了作對准時，讓晶元和光罩有些許的距離，使晶元與光罩不會直接摩擦。
＊ 若不須對准時，可以不使用逆時針方向旋轉Z knob。
＊ 旋轉Zknob時，不論順時針或逆時針轉動，當皮帶打滑時，代表晶元基座已和光罩接觸，此時不可逆時針旋轉，而導致內部螺栓松脫。
＊ CHUNK ¨ Z ¨ ADJUST一般為15A~20 A之間，且電流越小皮帶越松。
9. 移動顯微鏡座，至光罩上方，作晶元與光罩的對准校正。如須調整晶元的位置，可使用晶元基座旁的微調桿，校正晶元座X、Y及θ。
10.
100 SEC
1000 SEC
RESET
EXPOSE
SEC
曝光機面板左側如下圖：
注意：
＊曝光秒數有兩種設定，一種為1000SEC，一種為100SEC。當按下1000SEC時，計數器最大可設999秒的曝光時間；按下100SEC時，計數器最大可設99.9秒的曝光時間。
＊ 再設定曝光秒數時要先測量汞燈的亮度，先按LAMP TEST再按住把手上的按鈕移動基座至曝光機左端底，後然將OAI 306 UVPOWERMETER放置於CHUNK上即可，完畢後按RESET，而且可多測幾個不同的位置，觀看汞燈的亮度是否均勻，所測得的單位為mw/cm2，乘時間(SEC)即變可mJ的單位。
11. 設定好曝光秒數後，即可進行曝光的程序。扳動【CONTACT VAC.】至ON，【N2 PURGE】至ON，則晶元和光罩之間會產生些許的真空。
注意:
＊【CONTACT VAC ADJUST】的范圍一般為紅色-25kpa 左右。
12. 按住把手上的按鈕，此時基座才可移動，移至曝光機左端底，放開按鈕，則曝光機會自動進行曝光的動作。
13. 曝光完成後，即可將基座移回曝光機右端。扳動扳動【N2 PURGE】為OFF。再扳動【CONTACTVAC.】至OFF，儀器會充氮氣破光罩與晶元間的真空，方便使用者拿出晶元。
14. 逆時針旋轉Z knob，降下晶元基座至最低點。松開光罩固定的黑邊鐵框，拉起【MASK VAC.】鈕，即可破除MASKHolder的真空，光罩即可取出。
15. 扳起【MASK FRAME UP/DOWN】為UP，使MASK Holder升起。扳動【SUBVAC.】為OFF，使用晶元夾取出晶元，再扳【MASK FRAME UP/DOWN】為DOWN。
16. 如須進行再一次的曝光，則可重復上述步驟。
17. 完成所有的曝光程序後，先關掉顯微鏡光源產生器，再關掉汞燈電源供應器。〈關燈後一小時內不可再開啟汞燈，已延長汞燈壽命〉
18. 先關隧道式抽風馬達電源，關掉曝光機的開關【SYSTEMON/OFF】為OFF，再關掉曝光機下方的延長線總開關。待曝光機冷卻後，最後再關掉牆上氮氣閥及空氣閥。
熱蒸鍍機
使用操作方法
A.開機步驟
1. 開機器背面的總電源開關。
2. 開冷卻水，需先激活D.I Water 系統。
3. 開RP，熱機2分鍾。
4. 開三向閥切至F.V的位置，等2分鍾。
5. 開DP，熱機30分鍾(熱機同時即可進行Sample 之清洗與裝載，以節省時間)。
B.裝載
1. 開Vent，進氣之後立刻關閉。
2. 開Chamber。
3. Loading Sample、Boat及金屬。
4. 以Shutter擋住Sample。
5. 關Chamber，關門時務必注意門是否密合，因機器年久失修，通常須用手壓緊門的右上角。
C.抽真空
1. 初抽
(1)三向閥切至R.V位置(最好每隔幾分鍾就切換到F.V一下，以免DP內的幫浦油氣分子擴散進入chamber中)。
(2) 真空計VAP-5顯示至5´10-2 torr時三向閥切至F.V，等30秒。
2. 細抽
(1) M.V ON，記錄時間。
(2) ION GAUGE ON，壓下Fil 點燃燈絲(需要低於10-3 Torr以下才抽氣完成)。
D.蒸鍍
1. 壓力約2´10-5 Torr時，開始加入液態氮。
2. 壓力低於2´10-6 Torr時，記錄壓力及抽氣時間並關掉ION GAUGE。
3. Heater Power ON (確定Power調整鈕歸零)。
4. 選擇BOAT1 or BOAT2。
5. 蒸鍍開始，注意電流需慢慢增加。
注意:
＊ 鍍金時，儀表上電流約100A，鍍Al時電流可稍微小些，約70~80A。
＊ 當BOAT高熱發出紅光時，應立即關閉觀景窗，以免金屬附著在觀景窗的玻璃上。
＊ 空鍍幾秒將待鍍金屬表面清干凈後即可打開Shutter，開始蒸鍍。
＊ 蒸鍍完成後，立刻關閉HeaterPower，等10~15分鍾讓BOAT冷卻及蒸鍍後的金屬冷卻，避免立即和空氣接觸而氧化，才可vent破真空。
E.破真空
1. Substrate Hold溫度需要降至常溫。
2. ION GAUGE 【POWER】OFF。
3. M.V OFF。
4. DP OFF 冷卻30~60分鍾。
5. 開Vent(進氣後立刻關閉)。
6. 開Chamber，取出Sample及BOAT。
7. 關Chamber，注意將門關緊。
F.關機
1. 關F.V。
2. 開R.V，抽至0.01 Torr之後關閉。
3. 開F.V，30秒後三向閥切至關閉之位置。
4. RP OFF。
5. 關總電源。
6. 關冷卻水。
7. 關氮氣。
注意：
＊ 蒸鍍時，電流應緩慢增大，且不可太大，以免金屬在瞬間大量氣化，使厚度不易控制。
＊ 若接續他人使用，液態氮可少灌一點兒，約三分之一筒即可。
氧化爐管
使用操作方法
氧化爐管簡介
本實驗室所採用之氧化爐管為Lenton LTF1200水平管狀式爐子，可放2英吋硅晶圓，加熱區大於50cm，最高溫度可達1200°C並可連續24hr，最大操作溫度為1150°C，溫控方式採用PID微電腦自動溫度控制器。
目的
將硅晶元曝露在高溫且含氧的環境中一段時間後，我們可以在硅晶元的表面生長一層與硅的附著性良好，且電性符合我們要求的絕緣體-SiO2。
注意:
＊在開啟氧化爐之前，必須先確定【HEAT】Switch設定為【O】關閉的狀態。Switch在有電源供應時【l】將會發光，而氧化爐也將開始加熱。
＊如果過溫保護裝置是好的，請確定警報點的設定於目前的使用過程中為恰當地。如果過熱保護裝置是好的，蜂嗚器會有聲音，在過溫控制操作中有警報一致的程序。
＊ 為了改善石英玻璃管或襯套熱量的碰撞，其加熱速率最大不能超過3°C per min。
＊ 為了減少熱流失，必須確定正確的操作程序，適當的使用絕緣栓和放射遮蔽可以密封石英玻璃管。
＊ 在操作氧化爐時不要在最大溫度下關閉氧化爐，以延長氧化爐的壽命。
操作步驟:
1. 檢查前一次操作是否有異常問題發生，並填寫操作記錄。
2. 檢查機台狀態
(1) 控制面板狀態：使用前先確定【HEAT】Switch設定為【O】關閉的狀態。
(2) 加熱控制器: Lenton LTF 1200溫度>400°C，前後段爐溫差£40°C。
(3) 氣體控制:H2【OFF】，O2 【OFF】。
3. 將晶元緩慢的推入爐管內。
4. 打開牆上H2、O2之開關和機房的氣瓶調壓閥。
5. 設定預設氣體（H2 、O2）流量值及爐溫。
6. 按下【HEAT】Switch為【l】，此時爐溫將從恆溫(400°C)慢慢加熱至標准製程溫度1100°C，升溫速率最大不能超過3°C per min。
7. 待爐溫降至恆溫後將晶元取出。
8. 關閉H2、O2 。
9. 關閉爐管後端H2之開關及牆上之開關和機房的氣瓶調壓閥。
10. 檢查爐管是否完成關機動作。
11. 填寫操作記錄之終了時間和異常保護及說明。
塗布機
使用操作方法
1. 首先將PUMP的電源插頭插入塗布機後面的電源插座。
2. 將塗布機的插頭插入110V的電源插座，然後按下【POWER】鍵。
3. 設定旋轉的轉速及時間，本機型為二段式加速的Spin Coating，右邊為第一段加速，左邊為第二段加速。
4. 依不同尺寸的基材，可更換不同的旋轉轉盤做塗布的動作。
5.按下【PUMP】鍵，此時旋轉轉盤會吸住基材，然後將光阻依螺旋狀從基材中心均勻且慢慢的往外塗開至適當的量，在做光阻塗開動作時可先用氮氣將旋轉轉盤周圍及基材吹乾凈。
6. 蓋上塗布機的保護蓋，以防止光阻濺出塗布機外。
7. 按下【START】鍵，塗布機便開始做塗布的動作。
8. 塗布完畢後，打開保護蓋，按下【PUMP】鍵旋轉轉盤會放開基材，便可以將基材取出。
熱風循環烘箱
使用操作方法
1. 本機使用電壓110V/60HZ。
2. 確認電壓後，將電源線插入110V的插座。
3. 打開【POWER】開關，此時溫度表PV即顯示箱內實際溫度。
4. 首先按【SET】鍵ÿ，SV會一直閃爍此時即可開始設定溫度，而SV的字幕窗會呈現高亮度，在高亮度的位置可設定所需的溫度，只要再按【SET】鍵ÿ高亮度會隨之移動，在高亮度的地方即可設定溫度。
5. 按上移鍵▲表示溫度往上遞增，按下移鍵▼則溫度往下遞減。
6. 當完成以上設定溫度之後(SV仍閃爍不停)此時只要按一次【ENT】鍵SV即呈現剛才所設定的溫度(PV顯示實際溫度)。
7. 加熱燈OUT顯示燈亮時表示機器正在加熱中，而到達設定點時OUT會一閃一爍(正常現象)。
8. AT燈亮時表示溫度正自動演算中。
9. ALM-1紅色燈亮時表示溫度過熱(溫度會自動降溫)。
10. ALM-2紅色燈亮時表示溫度過低(溫度會自動加溫)。
11. 溫度范圍:40℃~210℃。
Ⅲ 重慶渝北空港翊寶電子廠怎麼樣工資高不
翊寶根本就是垃圾工廠，裡面的組長領班一個個牛皮哄哄的，隨時都在甩臉色，就像你刨了他家祖墳一樣。
先說工資：
工資不像中介說的那樣高。我入廠一個多月，2月10日領了3823塊錢，同宿舍的兩個小妹才領到3200塊錢，已經失望離職了。沒有五險一金，返費也是騙人的，中介現在人都找不到了。
再說作息：
工廠早上7點45-8點打上班卡，晚上19點45-20點打下班卡。但是宿舍到廠區17分鍾路程，過安檢至少5分鍾，走到車間裡面打卡的地方又至少5分鍾，所以你至少要7點30出門，否則就遲到了。遲到一秒鍾也算遲到，翊寶給員工每個月兩次遲到的機會，第三次就要扣錢了。進車間以後，如果你是在無塵棚里工作，那就最好除了吃飯和下班以外都不要出無塵棚。因為進那個無塵棚要在外面穿好藍色連體無塵服和藍色拖鞋才能進棚里，出無塵棚又要穿白色短款無塵服和黑色拖鞋才能出棚。而且整個一天下來，上午和下午各只有十分鍾休息時間，偏偏廁所和飲水間離車間也遠，你上個廁所喝點水回來差不多就十分鍾了。
在翊寶，從車間到二樓餐廳吃飯不用過安檢，但是飯菜面條死難吃，一樓菜勉強湊合，但是從車間到一樓需要過安檢，一樓餐廳不準穿任何防塵服，所以你過了安檢還得脫下白色短款防塵服和黑色拖鞋存在外面的櫃子里。這一堆亂七八糟的程序下來就花了至少八分鍾，你排隊買飯還要至少五分鍾，吃完飯回車間又要穿白色短款防塵服和黑色拖鞋過安檢，進無塵棚還要穿藍色連體服和藍拖鞋，然後你只有40分鍾吃飯時間，你自己估算一下還剩多少時間吃飯吧。
你還不能遲到哦，要是遲到了，你就等著領班和組長輪換著罵你吧，你也不能因為趕時間而拒絕安檢，那後果更嚴重。
再說餐飲：
早餐是沒有的，只有午餐和晚餐，錢從你的工資里扣，而且每天來來回回就是那幾道菜，時間長了吃得都快吐了，好多老員工晚上寧願不吃，把用餐時間省下來玩手機。
再說過安檢：
過安檢連一顆鐵扣子都要報警，聽別人說以前保安連女人胸罩里的鋼圈都要檢查，不過我入職之後沒發現這種情況。口紅唇膏智能手機全都不能帶，必須放在外面的櫃子里。
安檢員態度惡劣得不要不要的，女的還好，只是甩甩臉色罵兩句，男安檢員會打人的，而且他們專挑監控盲區打你，然後工人還手如果不小心被監控拍到，輕者記大過，重者馬上開除，安檢員卻啥事都沒有。
至於為什麼會這樣不公平，因為車間里的產品很貴重，翊寶怕工人偷偷帶出去，所以要把安檢員保護好，畢竟安檢員是為翊寶利益服務的，至於工人嘛，既不值錢，也沒有任何尊嚴和權利，反正社會上有大把的勞動力可以用，只要不出大事故，翊寶不怕傷害工人的。
再說管理：
員工關懷只是擺設，工人們反映的工作和生活中遇到的困難基本上都得不到解決的，有些員工關懷工作人員還會甩你臉色，覺得你給他們添麻煩了，所以後來也沒什麼人打員工關懷電話了。
宿管也是擺設，比如我的宿舍里被清潔阿姨進來做清潔的時候偷偷吃了一些水果，我向宿管反映，當時說調監控幫我看看，後來也沒下文了。東西倒不值錢，所以我也懶得問。
只有辦公室那一干組長領班什麼的，在做事情，他們做的事情就是天天在流水線兩邊走來走去，看誰不順眼就找誰麻煩。
我曾親耳聽到有個組長罵出來這樣的話：「你如果覺得翊寶在欺負你，你可以選擇走啊。」
每天都能看見有員工離職，也每天都能看見翊寶的公眾號在重金懸賞招人。我自己也快煩死了，現在正在努力提升自己，等到能夠找到更好的去處了，立馬選擇自離，扣三天工資我都願意。
總之，不到萬不得已，別進翊寶，社會上多的是比翊寶待遇好的工廠。